クリーンルームの気流解析

高精度なクリーンルーム設計を支援する高度な数値シミュレーション技術

半導体、フラット・パネル・ディスプレイなどの電子デバイスの製造や医薬、食品関連施設には、高清浄度のクリーンルームが必要です。特に近年、これらの製造工程で要求されるクリーンルームの清浄度はますます厳しいものとなってきており、その設計には、クルーンルーム内の気流状況、汚染物質の拡散状況などについて高精度の現象予測を行う技術が不可欠です。高度な数値シミュレーション技術により、目的に応じた最適なクリーンルーム設計を行うことができます。

特長・効果

1.クリーンルーム内気流の3次元シミュレーション

●高精度なクリーンルーム内気流解析技術です。
●さまざまなクリーンルーム方式、設計条件に対応します。
●偏流やよどみの発生個所の事前予測、設計への反映ができます。

2.粒径による違いを考慮した微粒子拡散解析

●対象粒径や乱流拡散を考慮した微粒子拡散挙動が再現できます。
●用途、目的に合致した具体的汚染制御対策が実現できます。

3.空気齢を用いた気流性能の評価

●空気齢(室内の空気が供給されてから要した時間)の概念を用いた新たな気流性能評価手法を使います。

フィルタ占有率による空気齢の違い
フィルタ占有率による空気齢の違い

4.実測値に基づく汚染発生個所の推定

●クリーンルーム内各部の汚染質濃度測定結果を用いた汚染源推定技術です。
●迅速かつ効果的な汚染対策を実現します。

汚染源の推定例

工事実績

エルピーダメモリ広島工場 E300ファブ エリア2(旧:広島エルピーダメモリ E300ラインPhaseⅡ)